HORIBA堀场 高灵敏度二氧化硅浓度计

HORIBA堀场制作所 高灵敏度二氧化硅浓度计SLIA-300

HORIBA堀场制作所 高灵敏度二氧化硅浓度计SLIA-300

HORIBA堀场制作所 高灵敏度二氧化硅浓度计SLIA-300

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满足以 0.01µg/L (0.01 ppb) 的较高灵敏度测量超低密度二氧化硅的客户需求

半导体生产制程中使用的超纯水可以通过使用离子交换树脂进一步纯化。快速捕获从离子交换树脂中溶解的二氧化硅可以控制超纯水的质量，这对制程十分重要。
HORIBA Advanced Techno 开发并采用了一种新的“长光路径长度测量单元”，能够对超低密度二氧化硅进行高灵敏度测量，同时还提供紧凑的桌面型号，以提高实用性。
该产品具有自诊断等一系列标准功能以及高速响应和高灵敏度等新的性能改进，为半导体生产制程中的纯水工艺提供了更强的支持。

概要

• 高灵敏度和高重复性

应用光纤技术确保约 1 m 的长光路径实现了超低密度的高灵敏度响应。该产品可确保 5 分钟高速测量过程，在 0-2 µg/L 测量范围内实现±2% F.S.的重复精度。

• 桌面型号紧凑设计

长光路径长度测量单元”的灵活结构也实现了紧凑设计。这种桌面型号适用于狭窄空间在内的各种安装条件。

• 试剂消耗减少至 1/5

为了将试剂消耗减少至先前的 1/5，反应单元已改进并与测量池分离。此外，测量单元已变更为管路型。采用“长光路径长度测量单元”可以大幅降低试剂的运行成本。

• 试剂消耗减少一半以上

不仅减少了试剂的消耗，还减少了样品水的消耗。通过采用“长光路径长度测量单元”，昂贵的纯水（用作样品水）消耗减少了 60%。HORIBA Advanced Techno 的二氧化硅浓度计有助于降低现场运行成本。   

• 浓度计误操作的自诊断功能

对误操作执行自诊断，例如样品水和/或试剂注入、校正错误、单元内温度检测和光源错误。发现错误时，警告灯点亮并显示文本消息。

• 自动校正实现出色的可维护性

持续自动执行零点校准，以检查透射光并校正浊度。

• 允许多达六点测量（可选）

可设置多达六个测量点。单个单元可进行多点测量。

• 采用半长久光源：无需更换

采用单色性半导体光源，提供稳定的光量和更长的寿命。可用作半长久光源。

长光路径长度测量单元：可检测低至 0.01 µg/L

测量单元为双层结构，其中透光氟碳树脂管穿过不锈钢管。由于碳氟化合物管和周围空气之间的折射率差异，从管路一侧进入的光到达另一侧之前在管路中反复反射。
这种光传输机制是光纤有效率和低阻塞原理的应用，实现了更高的检测灵敏度和高重复性。（申请中）

这款长光路径测量单元采用柔性管路结构，尺寸紧凑。通过将长达 1 米的单元存储在桌面紧凑机身中，成功将单元尺寸缩小至前代型号的 1/8。
此外，该测量单元的管路结构可有效降低运行成本：显色剂和样品水的消耗分别降低到先前量的 1/5 和 1/2。