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nikkato日陶 高真空热处理设备
- 产品名称:nikkato日陶 高真空热处理设备
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- 产品厂商:nikkato日陶
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简单介绍
nikkato日陶 高真空热处理设备
更多详情咨询:13024103468 刘经理
nikkato日陶 高真空热处理设备
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nikkato日陶 高真空热处理设备
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规范
工作温度 | 2000°C |
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有效尺寸 | φ800×L500mm(标准尺寸) |
真空度 | ~×10-5帕 |
大气层 | 真空、还原、NH3 等 |
NIKKATO日陶 的高真空热处理设备是一种先进的工艺设备,广泛应用于各种材料的处理,特别是在陶瓷和金属粉末的脱脂烧结过程中表现出色1。该设备集脱脂与烧结功能于一体,采用石墨棒或硅碳棒加热,*高温度可达1600℃,并支持真空、氩气、氢气等多种气氛控制,具备快速冷却功能以提高实验效率
技术参数和应用领域
- *高温度:1200℃至1600℃(不同型号)
- 冷却速率:从1200℃至室温只需2小时
- 控制精度:±1℃
- 极限真空度:≤3Pa(常规型号)至0.7Pa(高真空型号)
应用领域
该设备广泛应用于材料科学、冶金工程、粉末冶金、透明陶瓷及半导体行业的脱脂烧结,以及金属粉末(如钛合金、钨)的真空烧结与退火
工艺流程和设备操作
- 脱脂阶段:将坯体置于真空炉内,抽真空至5-20帕后按5-20℃/分钟升温,保温1-2小时使黏结剂气化,载流气体携带蒸气蜡至捕蜡罐收集
- 清洗阶段:交替充入保护气体形成压力脉冲,通过渗透-抽吸循环**内部残留,重复0.5-3小时提升脱脂率
- 烧结阶段:脱脂后的预制品在高
