容器组件
真空泵
- 产品名称：真空泵
- 产品型号： SDE系列
- 产品厂商：日本樫山kashiyama
- 产品文档：
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简单介绍
真空泵
的详细介绍
日本樫山kashiyama 真空泵 SDE系列 电/微 详询 赵13062644508
大抽气速率：以 SDE90X 为例，抽气速率为 58L/s，*大抽速可达 1300L/min，能快速抽取气体，适用于大尺寸晶圆和 FPD 基板处理等需要大排量抽气的场景。
节能：属于节能型产品，如 SDE90X 功率为 1.3kW，相比传统类型可降低 54% 的功耗，通过参数优化实现了能源有效利用。
极限压力低：能提供较高真空度，例如 SDE90X 极限压力可达 57Pa，满足对真空环境要求较高的工艺需求。
耐用性强：SDE - X 系列采用耐腐蚀结构材料并具备温度控制功能，可承受各种复杂工艺流程，适合连续运转，减少故障发生频率。
适应性广：可通过设置适应广泛工艺需求，能有效排出含有水蒸气或水滴的气体、易燃或腐蚀性气体等。
噪音低、振动小：运行时噪音和振动小，营造相对安静的工作环境，减少对周边设备和环境的影响。
维护方便：轴封采用机械密封，便于维护和保养，降低维护成本和停机时间。
结构紧凑：如 SDE90X 外形尺寸为 370mm×557mm×690mm，重量为 32kg，整体结构紧凑、重量轻，便于安装和集成到各种设备中。
主要型号及参数
电源电压：通常为三相 AC200 - 220V（50/60Hz），部分型号也可提供 380 - 480V 电压选择。
常见型号：包括 SDE90X、SDE120TX、SDE200、SDE303X/TX、SDE603X/TX、SDE1203X/TX、SDE20N12TX、SDE30N20、SDE60N20 等。
应用领域
半导体制造：在半导体晶圆制造过程中的蚀刻、镀膜、光刻等工艺，需要快速抽取大量气体以维持高真空度，SDE 系列真空泵的大抽气速率和低极限压力能够满足这些工艺要求。
平板显示（FPD）制造：用于 FPD 基板的处理，如液晶面板、有机发光二极管（OLED）面板的生产过程中，需要对真空镀膜、封装等工艺提供稳定的真空环境，SDE 系列真空泵可有效抽取工艺过程中产生的气体，保证产品质量。
其他领域：还可应用于需要处理大气体排量、高真空度的化工、制药、科研等领域，例如化工工艺中的蒸馏、干燥过程，以及科研实验室中的真空镀膜实验、真空干燥实验等。
日本樫山kashiyama 真空泵 SDE系列 电/微 详询 赵13062644508
日本樫山kashiyama 真空泵 SDE系列 电/微 详询 赵13062644508
大抽气速率：以 SDE90X 为例，抽气速率为 58L/s，*大抽速可达 1300L/min，能快速抽取气体，适用于大尺寸晶圆和 FPD 基板处理等需要大排量抽气的场景。
节能：属于节能型产品，如 SDE90X 功率为 1.3kW，相比传统类型可降低 54% 的功耗，通过参数优化实现了能源有效利用。
极限压力低：能提供较高真空度，例如 SDE90X 极限压力可达 57Pa，满足对真空环境要求较高的工艺需求。
耐用性强：SDE - X 系列采用耐腐蚀结构材料并具备温度控制功能，可承受各种复杂工艺流程，适合连续运转，减少故障发生频率。
适应性广：可通过设置适应广泛工艺需求，能有效排出含有水蒸气或水滴的气体、易燃或腐蚀性气体等。
噪音低、振动小：运行时噪音和振动小，营造相对安静的工作环境，减少对周边设备和环境的影响。
维护方便：轴封采用机械密封，便于维护和保养，降低维护成本和停机时间。
结构紧凑：如 SDE90X 外形尺寸为 370mm×557mm×690mm，重量为 32kg，整体结构紧凑、重量轻，便于安装和集成到各种设备中。
主要型号及参数
电源电压：通常为三相 AC200 - 220V（50/60Hz），部分型号也可提供 380 - 480V 电压选择。
常见型号：包括 SDE90X、SDE120TX、SDE200、SDE303X/TX、SDE603X/TX、SDE1203X/TX、SDE20N12TX、SDE30N20、SDE60N20 等。
应用领域
半导体制造：在半导体晶圆制造过程中的蚀刻、镀膜、光刻等工艺，需要快速抽取大量气体以维持高真空度，SDE 系列真空泵的大抽气速率和低极限压力能够满足这些工艺要求。
平板显示（FPD）制造：用于 FPD 基板的处理，如液晶面板、有机发光二极管（OLED）面板的生产过程中，需要对真空镀膜、封装等工艺提供稳定的真空环境，SDE 系列真空泵可有效抽取工艺过程中产生的气体，保证产品质量。
其他领域：还可应用于需要处理大气体排量、高真空度的化工、制药、科研等领域，例如化工工艺中的蒸馏、干燥过程，以及科研实验室中的真空镀膜实验、真空干燥实验等。
