容器组件
真空泵
- 产品名称: 真空泵
- 产品型号:SDL系列
- 产品厂商:日本樫山kashiyama
- 产品文档:
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简单介绍
真空泵
的详细介绍
日本樫山kashiyama 真空泵 SDL系列 电/微 详询 赵13062644508
产品特点
无油洁净:采用无润滑油机械结构,通过精密啮合转子实现气体压缩,全程无油,可避免油蒸气对工艺腔体的污染,适用于如半导体晶圆制造、LED 封装等对洁净度要求极高的工艺。
耐腐蚀性强:转子与腔体采用不锈钢镀层或陶瓷涂层,能耐受酸性气体(如 HCl、Cl?)和颗粒物,可用于处理腐蚀性气体的场景。
抽气性能优越:抽速范围广,为 10 - 1,500m3/h,极限真空可达 0.1Pa(0.001mbar),*大抽速可达 10,000L/min,能够快速有效地抽取气体,满足不同应用场景的真空需求。
高效节能:配备变频驱动(VFD),可调节转速,相比油封泵能耗降低 30% - 50%。部分型号通过新型加热器系统与机械结构优化,实现了低功耗化。
智能控制:具有实时参数显示功能,可通过触摸屏或远程接口(Modbus / 以太网)输出真空度、温度、功耗等数据。还设有自诊断系统,利用振动、温度传感器对异常情况(如过载或异物进入)进行预警,并自动停机保护。
功能灵活:部分型号支持氮气吹扫功能,氮气流量可在 0 至 80SLM 范围内调节,增强了工艺灵活性。此外,产品兼容性好,支持与同系列设备协同工作,可扩展应用场景。
应用领域
半导体制造:适用于晶圆制造过程中的 CVD/PVD 设备抽真空、光刻、蚀刻等关键工艺,可提供高真空度和洁净的真空环境,避免油污染,满足 Class 1000 洁净环境要求。
LED 封装:可用于固晶机、焊线机的无油真空吸附,确保封装过程的洁净度,提高产品质量。
化工领域:可用于处理腐蚀性气体,以及各种化工行业的溶剂回收、脱水、干燥等工艺。
制药行业:例如冻干机中的药品冻干工艺,提供无油真空保障,符合 GMP 要求。
其他领域:适用于实验室的高纯度实验环境控制,以及电子 / 电池、环保、能源等领域中对真空度和洁净度有要求的工艺。

日本樫山kashiyama 真空泵 SDL系列 电/微 详询 赵13062644508
日本樫山kashiyama 真空泵 SDL系列 电/微 详询 赵13062644508
产品特点
无油洁净:采用无润滑油机械结构,通过精密啮合转子实现气体压缩,全程无油,可避免油蒸气对工艺腔体的污染,适用于如半导体晶圆制造、LED 封装等对洁净度要求极高的工艺。
耐腐蚀性强:转子与腔体采用不锈钢镀层或陶瓷涂层,能耐受酸性气体(如 HCl、Cl?)和颗粒物,可用于处理腐蚀性气体的场景。
抽气性能优越:抽速范围广,为 10 - 1,500m3/h,极限真空可达 0.1Pa(0.001mbar),*大抽速可达 10,000L/min,能够快速有效地抽取气体,满足不同应用场景的真空需求。
高效节能:配备变频驱动(VFD),可调节转速,相比油封泵能耗降低 30% - 50%。部分型号通过新型加热器系统与机械结构优化,实现了低功耗化。
智能控制:具有实时参数显示功能,可通过触摸屏或远程接口(Modbus / 以太网)输出真空度、温度、功耗等数据。还设有自诊断系统,利用振动、温度传感器对异常情况(如过载或异物进入)进行预警,并自动停机保护。
功能灵活:部分型号支持氮气吹扫功能,氮气流量可在 0 至 80SLM 范围内调节,增强了工艺灵活性。此外,产品兼容性好,支持与同系列设备协同工作,可扩展应用场景。
应用领域
半导体制造:适用于晶圆制造过程中的 CVD/PVD 设备抽真空、光刻、蚀刻等关键工艺,可提供高真空度和洁净的真空环境,避免油污染,满足 Class 1000 洁净环境要求。
LED 封装:可用于固晶机、焊线机的无油真空吸附,确保封装过程的洁净度,提高产品质量。
化工领域:可用于处理腐蚀性气体,以及各种化工行业的溶剂回收、脱水、干燥等工艺。
制药行业:例如冻干机中的药品冻干工艺,提供无油真空保障,符合 GMP 要求。
其他领域:适用于实验室的高纯度实验环境控制,以及电子 / 电池、环保、能源等领域中对真空度和洁净度有要求的工艺。
